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期刊文章 ZnO：Al（ZAO）薄膜的制备与特性研究
出处：金属学报 2005年第1期 84-88,共5页
摘要：采用磁控溅射技术制备了ZnO:Al(ZAO)薄膜.研究了不同的工艺参数对薄膜的组织结构和光电特性的影响.实验结果... 显示全部
关键词： 直流反应磁控溅射 薄膜 生长机制 光电特性
期刊文章 温度对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜光学性质的影响
出处：材料科学与工程学报 2005年第3期 341-344,共4页
摘要：应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定的电源功率下,氩气流量为42.6sccm,氧流量为15... 显示全部
关键词： 二氧化钛薄膜 直流反应磁控溅射 温度 反射率
期刊文章 双层TiOxNy光谱选择性吸收薄膜特性的研究
出处：真空科学与技术学报 2008年第5期 450-453,共4页
摘要：应用直流反应磁控溅射设备在铜基底上制备双层TiOxNy选择性吸收薄膜。当第一层薄膜的制备参数不变时，研究... 显示全部
关键词： 直流反应磁控溅射 选择性吸收薄膜 反射率
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期刊文章 直流反应磁控溅射相关工艺条件对TiO2薄膜反射率性质的影响
出处：真空科学与技术学报 2008年第1期 55-58,共4页
摘要：应用直流反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜，利用n＆k仪对薄膜的反射率进行检测，结果表明TiO2薄膜... 显示全部
关键词： 直流反应磁控溅射 二氧化钛薄膜 太阳电池 反射率
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期刊文章 衬底温度对直流反应磁控溅射法制备的N掺杂p型ZnO薄膜性能的影响
出处：人工晶体学报 2007年第5期 1132-1135,共4页
摘要：利用直流反应磁控溅射法（纯金属锌作为靶材,Ar-N2-O2混合气体作为溅射气体）在石英玻璃衬底上制备了N掺杂p... 显示全部
关键词： 薄膜 型 直流反应磁控溅射
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期刊文章 总气压对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
出处：真空科学与技术学报 2005年第1期 65-68,共4页
摘要：用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在固定电源功率、氩气流量42.6 sccm、氧流量15 sccm、... 显示全部
关键词： 薄膜 光学性质 直流反应磁控溅射 折射率 气压 晶体结构 硅基底 短波 对消 反射率
期刊文章 TiO2薄膜的光电催化性能及电化学阻抗谱研究
出处：世界科技研究与发展 2007年第3期 1-5,共5页
摘要：用直流磁控溅射法在钛网上制备了TiO2薄膜催化剂,采用电化学阻抗谱（EIS）对其阻抗谱特征进行了表征.同时以... 显示全部
关键词： 光电催化 薄膜 直流反应磁控溅射 电化学阻抗谱 阳极偏压
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