聚类工具

0
网站首页网站地图
访问手机版
关于我们
注册
帮助 本站公告
全部文献 媒体文章 报刊论文 会议论文 学位论文 出版专著 研究报告 课题成果 特色专题
高级检索
您现在所在的位置：网站首页 > 知识中心 > 检索结果
全选 题录导出
排序：
期刊文章 类金刚石薄膜在模拟体液中的电化学阻抗
出处：硅酸盐学报 2005年第11期 1314-1320,共7页
摘要：利用双放电腔微波等离子体源全方位离子注入设备,分别采用等离子体增强化学气相沉积技术、等离子体源离子注... 显示全部
关键词： 类金刚石薄膜 电化学阻抗谱 模拟体液 等离子体源离子注入 等离子体增强化学气相沉积
在线阅读 下载全文
期刊文章 SiCl4-H2沉积多晶硅薄膜过程中放电功率的影响
出处：汕头大学学报：自然科学版 2004年第4期 14-18,共5页
摘要：以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,以3.5(A)/s的速率生长出了晶化度为75%的优质多晶硅薄... 显示全部
关键词： 等离子体增强化学气相沉积 多晶硅薄膜 电功率 薄膜沉积 速率 大尺寸 放电 晶粒尺寸 均匀 线性
期刊文章 用等离子体增强化学气相沉积技术制备类金刚石碳薄膜的摩擦磨损性能研究
出处：摩擦学学报 2005年第4期 298-302,共5页
摘要：利用射频-直流等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上沉积类金刚石碳薄膜,采用激光拉曼光谱仪和原子... 显示全部
关键词： 等离子体增强化学气相沉积 类金刚石碳薄膜 结构 摩擦磨损性能
期刊文章 a-SiCx：H／nc-Si：H多层薄膜的室温时间分辨光致可见发光
出处：发光学报 2004年第6期 696-700,共5页
摘要：在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,通过控制进入反应室的气体种类逐层沉积非晶SiCx:H(a-SiCx:H)和... 显示全部
关键词： 多层薄膜 等离子体增强化学气相沉积 热退火
期刊文章 等离子体增强化学气相沉积端面减反膜的研究
出处：半导体光电 2004年第5期 380-383,387,共5页
摘要：利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制作半导体有源器件端面减反膜的方法简单易行,且适合进行大规模... 显示全部
关键词： 减反射膜 等离子体增强化学气相沉积 低反射率
期刊文章 等离子体增强化学气相沉积法制备氢化硅膜的自晶化倾向性
出处：硅酸盐学报 2014年第10期1235-1239,共5页
摘要：为了探寻生长过程中硅膜的自晶化沉积,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积了氢化硅薄膜,系统研究了... 显示全部
关键词： 硅膜 等离子体增强化学气相沉积 沉积时间 微观结构 沉积速率
在线阅读 下载全文
期刊文章 激发频率对高氢稀释下纳米晶硅薄膜生长特性的影响
出处：物理学报 2010年第10期7378-7382,共5页
摘要：利用等离子体增强化学气相沉积技术,在高氢稀释条件下,研究不同激发频率对纳米晶硅薄膜生长特性的影响.剖面... 显示全部
关键词： 等离子体增强化学气相沉积 高氢稀释 纳米晶硅
在线阅读 下载全文
找到7条结果

联系方式

电 话：020-38800179

邮 箱：gdtheory@126.com

地 址：广州市天河区天河北路618号广东社会科学中心

邮 编：510635

友情链接

扫一扫 手机浏览

广东省社会科学院·广东省哲学社会科学数据库·广东智库 版权所有 Copyright©2012 gdtheory.cn All Rights Reserved.

违法和不良信息举报中心举报邮箱：jubao@cqvip.com 粤ICP备10080020号-3

`