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期刊文章 射频功率对微晶硅薄膜微结构和光电性能的影响
出处:真空 2012年第4期83-86,共4页
摘要:采用射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)技术,在玻璃和硅衬底上沉积微晶硅(μc-Si:H)薄膜。利用... 显示全部
关键词: 微晶硅薄膜 射频功率 拉曼光谱 暗电导率
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期刊文章 射频溅射功率对AZO薄膜结构及光电特性和热稳定性的影响
出处:发光学报 2010年第2期 235-238,共4页
摘要:采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜。用X射线衍射(XRD)仪、紫外-可见分... 显示全部
关键词: 磁控溅射 薄膜 射频功率 热稳定性
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期刊文章 红外光谱法研究射频功率对微晶硅薄膜微结构的影响
出处:光谱实验室 2012年第1期 537-540,共4页
摘要:采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在硅衬底上以不同的射频功率生长微晶硅(μc-Si:H)... 显示全部
关键词: 微晶硅薄膜 射频功率 傅里叶变换红外透射谱
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期刊文章 磁控反应溅射法低温制备氮化硅薄膜
出处:汕头大学学报:自然科学版 2003年第2期 35-39,共5页
摘要:采用射频(RF)磁控反应溅射法制备出氮化硅薄膜.从红外吸收光谱可见,氮气参加了反应并生成Si-N键,薄膜中含有... 显示全部
关键词: 氮化硅薄膜 射频磁控反应溅射法 制备过程 制备工艺 红外吸收光谱 基片温度 射频功率
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