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会议论文 双芘基团共聚物组装膜的制备及其性质研究(英文)
出处:2010年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术研讨会(暨第十一次全国高分子液晶态与超分子有序结构学术论文报告会)
摘要:<正>光刻技术是微电子和光电子产业中一项重要工序,因此研究高敏感的光致抗蚀材料及其成膜方式非常有必要。... 显示全部
关键词: 光刻技术 膜技术 共聚物
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