中文会议： 2010年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术研讨会（暨第十一次全国高分子液晶态与超分子有序结构学术论文报告会）会议论文集

会议日期： 2010-08-23

会议地点： 中国河南郑州

出版方 ： 中国化学会高分子学科委员会

作　　者： ; ; ; ; ;

机构地区： 郑州大学

出　　处： 《2010年两岸三地高分子液晶态与超分子有序结构学术研讨会（暨第十一次全国高分子液晶态与超分子有序结构学术论文报告会）》

摘　　要： <正>光刻技术是微电子和光电子产业中一项重要工序,因此研究高敏感的光致抗蚀材料及其成膜方式非常有必要。Langmuir-Blodgett(LB)膜技术是一种制备分子高度有序排列的超薄膜的先进技术。光化学反应通常取决于分子的取向,因此气液界面上的Langmuir单分子层和固体基片上的LB膜是探讨光化学反应一种很好的模式。近米,芘作为荧光探针及其衍生物的研究已引起广泛关注,本文设计并合成了一系列带有双

关 键 词： 光刻技术 膜技术 共聚物

分 类 号： [O631]

领　　域： [理学] [理学]