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期刊文章 提拉法制备铜单晶研究
出处:人工晶体学报 2011年第3期563-566,共4页
摘要:采用提拉法生长出大尺寸(111)铜单晶,晶体尺寸为Ф (12~19)mm×85 mm。通过XRD、金相显微分析讨论了铜... 显示全部
关键词: 铜单晶 提拉法 晶体生长 晶体缺陷
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期刊文章 Al-Y共掺杂ZnO透明导电薄膜制备及光电性能研究
出处:中山大学学报:自然科学版 2011年第6期 35-38,共4页
摘要:采用溶胶-凝胶法,在玻璃衬底上制备出Al-Y共掺杂的ZnO透明导电薄膜。X射线衍射(XRD)表明,Al-Y共掺杂ZnO透... 显示全部
关键词: 共掺杂 透明导电薄膜 溶胶 凝胶
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期刊文章 苛化白泥在陶瓷材料中的应用研究
出处:中国造纸学报 2004年第2期 73-76,共4页
摘要:根据草浆碱回收苛化白泥的组成、性能特点,将其应用于陶瓷材料的实际生产中并进行了低成本无害化处理.实验... 显示全部
关键词: 苛化 快速烧成 熔块 硅灰石 陶瓷材料 白泥 低温合成 无害化处理 碱回收 草浆
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期刊文章 退火温度对La3Ga5SiO14薄膜结构及表面形貌的影响
出处:人工晶体学报 2010年第3期 588-592,共5页
摘要:采用脉冲激光沉积技术在Si(100)衬底上制备了La3Ga5SiO14薄膜,并研究了不同的退火温度对薄膜结构和表面形... 显示全部
关键词: 薄膜 脉冲激光沉积 退火温度 微观结构
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期刊文章 提拉法制备铜单晶基片的化学机械抛光研究
出处:人工晶体学报 2011年第6期 1418-1422,1428,共6页
摘要:采用提拉法成功制备出高纯铜(Ca)单晶,最大尺寸为4,15mm×60mm。采用化学机械抛光(CMP)方法对Cu单晶基... 显示全部
关键词: 单晶铜 化学机械抛光 表面粗糙度
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