聚类工具

0
帮助 本站公告
您现在所在的位置:网站首页 > 知识中心 > 检索结果
排序:
期刊文章 PECVD SiC薄膜的AES研究
出处:真空科学与技术学报 1989年第3期189-192,共4页
摘要: 本文介绍用俄歇电子能谱对等离子增强化学气相淀积非晶碳化硅薄膜进行组分的定量分析、深度剖析和元素的化... 显示全部
关键词: 硅薄膜 化学气相淀积 非晶碳 化学状态 衬底温度 光学带隙 介质薄膜 俄歇电子
在线阅读 下载全文
找到1条结果
`