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期刊文章 衬底温度对直接光CVD SiO2薄膜特性的影响
出处:半导体学报 2002年第8期 825-829,共5页
摘要:采用以低压氙(Xe)气激发真空紫外光作光源,以SiH4和O2作反应气体的直接光CVD技术淀积SiO2薄膜。通过椭圆... 显示全部
关键词: 衬底温度 薄膜特性 氧化硅 气相沉积
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期刊文章 不同氧分压下电子束蒸发氧化锆薄膜的特性
出处:光电工程 2006年第6期 37-40,52,共5页
摘要:在不同的氧分压下用电子柬热蒸发的方法制备了氧化锆薄膜。用扫描探针显微镜、X射线衍射仪和分光光度计分别... 显示全部
关键词: 氧化锆薄膜 氧分压 表面迁移率 薄膜特性
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