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期刊文章 Metropolis蒙特卡罗模拟湿法腐蚀算法研究及应用
出处:半导体学报 2008年第1期 183-188,共6页
摘要:探讨了Metropolis蒙特卡罗方法模拟硅微加工各向异性湿法腐蚀仿真算法.在台阶流动(stepflow)模型上引入... 显示全部
关键词: 蒙特卡罗 单晶硅 各向异性 湿法腐蚀
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期刊文章 偏晶向(111)硅片闪耀光栅的制作
出处:光子学报 2004年第6期 755-757,共3页
摘要:硅光栅的制作可以利用湿法腐蚀体硅工艺.湿法腐蚀利用硅的各向异性,由硅的晶面形成光栅工作凹槽,利用湿法工... 显示全部
关键词: 硅片 闪耀光栅 体硅技术 湿法腐蚀
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期刊文章 纳米压印制作半导体激光器的分布反馈光栅
出处:微纳电子技术 2010年第1期 56-59,共4页
摘要:分布反馈(DFB)光栅的制作是半导体激光器芯片的关键工艺,通过纳米压印技术在InP基片表面涂覆的光刻胶上... 显示全部
关键词: 纳米压印 半导体激光器 分布反馈光栅 相移型光栅 干法刻蚀技术 湿法腐蚀
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期刊文章 偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计
出处:微细加工技术 2003年第4期 18-21,26,共5页
摘要:利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅,再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以... 显示全部
关键词: 闪耀光栅 偏晶向硅片 体硅 湿法腐蚀 微制造
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期刊文章 SiGe HBT发射极台面湿法腐蚀技术研究
出处:微纳电子技术 2003年第10期 15-16,41,共3页
摘要:在SiGe HBT的制造工艺中,为了防止干法刻蚀发射极台面对外基区表面造成损伤,从而导致SiGe HBT小电流下较大... 显示全部
关键词: 制造工艺 湿法腐蚀 异质结双极晶体管 超高真空低压化学汽相淀积 硅锗
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期刊文章 动力学蒙特卡罗法体硅湿法刻蚀工艺仿真的研究与开发
出处:中国制造业信息化:学术版 2009年第5期 13-16,共4页
摘要:对比分析了BKL、二叉树搜索以及树状结构搜索算法(KLS)3种动力学蒙特卡罗法的实现过程,讨论了它们在MEMS... 显示全部
关键词: 蒙特卡罗 单晶硅 湿法腐蚀 表面形态
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