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期刊文章 TiO_2薄膜的制备及其压敏特性研究
出处:半导体技术 2010年第10期973-975,共3页
摘要:对热氧化制备的TiO2薄膜的低压压敏特性进行了研究。首先利用直流磁控溅射方法在重掺Si衬底上沉积一层金属... 显示全部
关键词: 二氧化钛 薄膜 压敏特性 择优取向 厚度
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期刊文章 用区熔技术改善多晶硅薄膜颗粒硅带衬底的质量
出处:华南理工大学学报:自然科学版 2005年第7期 28-31,共4页
摘要:以颗粒硅带为衬底,通过化学气相沉积法制备多晶硅薄膜作为太阳电池的活性层.为了改善硅带衬底的质量,引入区... 显示全部
关键词: 区熔 颗粒硅带 多晶硅薄膜 平整度 择优取向
期刊文章 晶粒尺寸对电沉积取向性金属Ni镀层抗氧化性能的影响
出处:粉末冶金材料科学与工程 2011年第4期 537-546,共10页
摘要:通过调控电沉积过程中的阴极电流密度制备晶粒尺寸和择优取向均不相同的2种Ni镀层,并研究它们的高温氧化行... 显示全部
关键词: 电沉积 高温氧化 晶粒尺寸 择优取向
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期刊文章 阴极电沉积ZnO薄膜的取向控制生长
出处:发光学报 2010年第2期 214-218,共5页
摘要:采用阴极电沉积法,在Zn(NO3)2水溶液中,以304不锈钢为衬底制备了ZnO薄膜,研究了Zn^2+浓度和电流密度对Zn... 显示全部
关键词: 薄膜 电沉积 择优取向
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期刊文章 电沉积金属Ni涂层的高温腐蚀性能
出处:中国有色金属学报 2010年第12期 2377-2386,共10页
摘要:通过调控电沉积过程中的阴极电流密度制备具有不同晶粒尺寸和择优取向的Ni镀层。采用透射电镜(TEM)、扫描... 显示全部
关键词: 电沉积 高温腐蚀性能 晶粒尺寸 电流密度 择优取向
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期刊文章 常温低氮氩比下(002)择优取向氮化铝薄膜的制备
出处:四川大学学报:自然科学版 2011年第6期 1386-1390,共5页
摘要:常温下采用反应射频磁控溅射方法在玻璃基底上制备出(002)单一择优取向柱状结构的氮化铝薄膜,通过XRD分... 显示全部
关键词: 薄膜 射频反应磁控溅射 择优取向 沉积速率
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期刊文章 钽酸锶铋薄膜的溶胶-凝胶法制备研究
出处:中国陶瓷 2013年第4期12-15,共4页
摘要:以常见的硝酸锶、硝酸铋以及自制柠檬酸钽为原料,柠檬酸和乙二胺四乙酸为复合螯合剂、乙二醇为酯化剂,采用... 显示全部
关键词: 钽酸锶钡 前驱溶胶 薄膜 择优取向
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期刊文章 偏压对阴极电弧离子镀AlN薄膜的影响
出处:材料研究学报 2001年第6期 675-680,共6页
摘要:在不同基体负偏压作用下,用阴极电弧离子镀等离子体物理气相沉积(PVD)方法在单晶Si(100)基片上获得六方晶系... 显示全部
关键词: 偏压 阴极电弧离子镀 物理气相沉积 薄膜 择优取向 表面形貌 单晶硅基片 氮化铝薄膜 显微组织
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