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期刊文章 Al—Si合金RIE参数选择
出处:半导体技术 2004年第11期 19-21,共3页
摘要:采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、对PR选择比为评价指标... 显示全部
关键词: 反应离子刻蚀 正交试验 刻蚀 刻蚀速率
期刊文章 反应离子刻蚀加工工艺技术的研究
出处:半导体技术 2006年第6期 414-417,共4页
摘要:反应离子刻蚀(RIE)选择性比较低,只能进行各向异性刻蚀,刻蚀特征尺寸小于3μm,无危险化学试剂,但有危... 显示全部
关键词: 微机电系统 工艺 反应离子刻蚀
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