聚类工具

0
帮助 本站公告
您现在所在的位置:网站首页 > 知识中心 > 检索结果
排序:
期刊文章 PECVD SiC薄膜的AES研究
出处:真空科学与技术学报 1989年第3期189-192,共4页
摘要: 本文介绍用俄歇电子能谱对等离子增强化学气相淀积非晶碳化硅薄膜进行组分的定量分析、深度剖析和元素的化... 显示全部
关键词: 硅薄膜 化学气相淀积 非晶碳 化学状态 衬底温度 光学带隙 介质薄膜 俄歇电子
在线阅读 下载全文
期刊文章 AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的异质外延
出处:中国激光 2009年第5期1209-1213,共5页
摘要:利用化学气相淀积(CVD)的方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功实现了4H—SiC薄膜的异质外延生长,用X射线... 显示全部
关键词: 化学气相淀积 薄膜 复合衬底 异质外延 阴极荧光
在线阅读 下载全文
找到2条结果
`