聚类工具

0
帮助 本站公告
您现在所在的位置:网站首页 > 知识中心 > 检索结果
排序:
期刊文章 用SiCl4/H2气源沉积多晶硅薄膜光照稳定性的研究
出处:物理学报 2005年第8期 3805-3809,共5页
摘要:对以SiH4/H2及SiCl4/H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积技术制备的非晶硅薄膜和多晶硅薄膜进行了光... 显示全部
关键词: 多晶硅薄膜 光照稳定性 化学气相沉积技术 气源 等离子体增强 非晶硅薄膜 源气体 光电导 晶化度 稀释度 电导率 制备 衰减
在线阅读 下载全文
找到1条结果
`