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会议论文 弱硼掺杂补偿对氢化微晶硅薄膜制备与特性的影响
出处:第八届全国光伏会议暨中日光伏论坛
摘要:本文对甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术制备氢化微晶硅薄膜(μc-Si:H)的弱硼掺杂补偿特... 显示全部
关键词: 氢化微晶硅薄膜 等离子体增强 化学气相沉积 掺杂补偿 薄膜制备
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