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期刊文章 VHF-PECVD法高速率沉积氢化微晶硅薄膜
出处:太阳能学报 2004年第2期 127-132,共6页
摘要:采用光发射谱(OES)技术对氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜的甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)生长过程... 显示全部
关键词: 光发射谱 氢化微晶硅薄膜 甚高频等离子体化学气相沉积 高速沉积
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