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期刊文章 偏晶向(111)硅片闪耀光栅的制作
出处:光子学报 2004年第6期 755-757,共3页
摘要:硅光栅的制作可以利用湿法腐蚀体硅工艺.湿法腐蚀利用硅的各向异性,由硅的晶面形成光栅工作凹槽,利用湿法工... 显示全部
关键词: 硅片 闪耀光栅 体硅技术 湿法腐蚀
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期刊文章 偏晶向(111)硅片闪耀光栅的设计
出处:微细加工技术 2003年第4期 18-21,26,共5页
摘要:利用硅单晶的特殊结构可以设计出不同角度的闪耀光栅,再使用MEMS的紫外光刻、各向异性腐蚀等常规工艺就可以... 显示全部
关键词: 闪耀光栅 偏晶向硅片 体硅 湿法腐蚀 微制造
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