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期刊文章 一种FPGA抗辐射工艺映射方法研究
出处:电子学报 2011年第11期 2507-2512,共6页
摘要:提出一种基于部分TMR和逻辑门掩盖的FPGA抗辐射工艺映射算法FDRMap,以及一个基于蒙特卡洛仿真的并行错误注... 显示全部
关键词: 现场可编程门阵列 工艺映射 抗辐射 错误仿真 单粒子翻转
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