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期刊文章 衍射干涉光刻研究
出处:半导体技术 2012年第5期 363-366,共4页
摘要:光刻就是将掩模版上的图形转移到基底的过程,广泛应用于微电子、微机械领域。衍射现象是光刻工艺无法避免的... 显示全部
关键词: 严格耦合波分析算法 光刻机 衍射干涉 干法刻蚀 亚微米
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