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期刊文章 用于悬浮纳米结构制作的氢氟酸气相刻蚀研究
出处:半导体技术 2009年第12期 1166-1169,共4页
摘要:针对纳米悬浮结构的制作,对不同温度和不同气相条件下的氢氟酸(HF)气相刻蚀进行了研究。利用自制的研究装... 显示全部
关键词: 氢氟酸 气相刻蚀 二氧化硅 纳米结构 纳机电系统
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