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期刊文章 离子束流和基底温度对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响
出处:真空科学与技术学报 2008年第S1期,共4页
摘要:本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD),在室温下制备了ZrN、TiAlN和一系列ZrN/TiAlN纳米多层膜,利用XRD... 显示全部
关键词: 离子束辅助沉积 纳米多层膜 硬度 离子束流 基底温度
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