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期刊文章 氧退火对SiO2/Si衬底BST薄膜特性的影响
出处:固体电子学研究与进展 2004年第3期 396-401,共6页
摘要:利用氩离子束镀膜技术和硅平面工艺在经过干氧氧化的硅衬底上制备一层钛酸锶钡薄膜,并在氧气中进行不同条件... 显示全部
关键词: 钛酸锶钡薄膜 物理特性 电学特性 介电常数 电荷存储
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