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期刊文章 大面积循环扫描投影光刻对准系统设计和分析
出处:半导体光电 2009年第3期455-459,共5页
摘要:设计了大面积循环扫描投影光刻的高精度对准系统,由CCD传感器、图像识别软件和共焦显微镜组成的光学测量系... 显示全部
关键词: 投影光刻 对准 激光共焦扫描显微镜 相关双采样
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