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期刊文章 工艺参数对氧化铟锡薄膜光电性能的影响
出处:真空与低温 2002年第4期 211-214,共4页
摘要:研究了磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜时优化工艺参数的重要性,通过实验和理论分析了几个主要工艺参数对氧... 显示全部
关键词: 工艺参数 氧化铟锡薄膜 光电性能 磁控溅射 陶瓷靶 氧化物半导体薄膜
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