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期刊文章 VHF-PECVD法高速率沉积氢化微晶硅薄膜
出处:太阳能学报 2004年第2期 127-132,共6页
摘要:采用光发射谱(OES)技术对氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜的甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)生长过程... 显示全部
关键词: 光发射谱 氢化微晶硅薄膜 甚高频等离子体化学气相沉积 高速沉积
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期刊文章 弱硼掺杂补偿对氢化微晶硅薄膜制备与特性的影响
出处:半导体学报 2005年第6期 1164-1168,共5页
摘要:研究了弱硼掺杂补偿对甚高频等离子体增强化学气相沉积方法生长氢化微晶硅薄膜(μc-Si:H)及材料特性的影响... 显示全部
关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积 氢化微晶硅薄膜 弱硼掺杂补偿
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