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期刊文章 Cr掩模在硅湿法刻蚀中的应用研究
出处:半导体技术 2005年第12期 26-28,34,共4页
摘要:针对硅湿法刻蚀中常见的SiO2、Si3N4掩模的缺点,提出了以Cr薄膜层为刻蚀掩模的新方法,并进行了相应的试验.... 显示全部
关键词: 掩模 湿法刻蚀
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期刊文章 一种处理遮掩的人脸特征点定位方法
出处:系统仿真学报 2009年第8期2229-2234,共6页
摘要:AAM(Active Appearance Models,主动表观模型)是一种定位人脸特征点的有效方法,它由人脸动态表观建模和... 显示全部
关键词: 人脸特征点定位 遮掩 掩模 主动表观模型 反向组合算法
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