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期刊文章 热处理升温快慢对非晶硅中形成的纳米硅粒尺寸的影响
出处:量子电子学报 2002年第5期 461-466,共6页
摘要:含氢非晶硅薄膜经过快速热退火处理后,我们用拉曼散射和X-射线衍射技术对样品进行分析.我们的实验结果表明:... 显示全部
关键词: 纳米硅 拉曼散射 快速热退火 射线衍射 非晶硅薄膜
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