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期刊文章 浅结激光退火的实验研究及工艺模型
出处:微电子学 2012年第6期889-892,896共5页
摘要:随着器件尺寸缩小,浅结、超浅结的制作日益成为重要的工艺模块。对于22nm及以下技术代来说,除了采用低能... 显示全部
关键词: 激光退火 工艺模型 浅结
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