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期刊文章 磁控反应溅射法低温制备氮化硅薄膜
出处:汕头大学学报:自然科学版 2003年第2期 35-39,共5页
摘要:采用射频(RF)磁控反应溅射法制备出氮化硅薄膜.从红外吸收光谱可见,氮气参加了反应并生成Si-N键,薄膜中含有... 显示全部
关键词: 氮化硅薄膜 射频磁控反应溅射法 制备过程 制备工艺 红外吸收光谱 基片温度 射频功率
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