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期刊文章 同质缓冲层对ZnO薄膜光学性质的影响
出处:电子元件与材料 2006年第7期 48-51,共4页
摘要:利用射频磁控溅射技术,在单晶硅村底上生长出高质量(0002)晶面取向的ZnO外延薄膜。通过XRD、AFM、吸收光... 显示全部
关键词: 半导体技术 射频磁控溅射 薄膜 同质缓冲层
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