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期刊文章 磁控溅射TiO2膜的真空度对薄膜亲水性影响的实验研究
出处:真空科学与技术学报 2007年第2期 155-158,共4页
摘要:采用反应溅射技术可以制备出具有亲水作用的TiO2薄膜。这种TiO2薄膜断面呈现柱状晶体结构。薄膜表面出现不... 显示全部
关键词: 薄膜 亲水特性 反应溅射 真空度
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期刊文章 中频反应磁控溅射沉积Al2O3薄膜中迟滞回线的研究
出处:真空 2007年第3期32-35,共4页
摘要:采用中频磁控反应溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,对该工艺过程中溅射电压和沉积速率与氧流量的“迟滞回... 显示全部
关键词: 迟滞回线 反应溅射 中频溅射 氧化铝薄膜
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期刊文章 高功率脉冲磁控溅射技术沉积硬质涂层研究进展
出处:广东工业大学学报 2013年第4期1-13,共13页
摘要:高功率脉冲磁控溅射技术是最新发展起来并受到广泛关注的一种高离化率物理气相沉积技术,它利用较高的脉冲... 显示全部
关键词: 高功率脉冲磁控溅射技术 离化率 硬质涂层 反应溅射
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期刊文章 反应溅射AlN的模拟
出处:真空科学与技术学报 2007年第5期 377-379,共3页
摘要:研究了用反应磁控溅射的方法制备氮化铝薄膜。由于铝和氮化铝二次电子发射系数有很大的不同,导致制备时会在... 显示全部
关键词: 模拟 氮化铝 反应溅射 二次电子发射系数
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