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期刊文章 衍射干涉光刻研究
出处:半导体技术 2012年第5期 363-366,共4页
摘要:光刻就是将掩模版上的图形转移到基底的过程,广泛应用于微电子、微机械领域。衍射现象是光刻工艺无法避免的... 显示全部
关键词: 严格耦合波分析算法 光刻机 衍射干涉 干法刻蚀 亚微米
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期刊文章 基于ZPETC-FF和DOB的精密运动平台控制
出处:哈尔滨工业大学学报 2014年第1期1-6,共6页
摘要:光刻机的工件台和掩模台采用长行程直线电机宏动跟随平面电机高精密微动的复合运动方式,实现系统高动态纳... 显示全部
关键词: 光刻机 工件台 零相位跟踪控制 干扰观测器 高动态精密伺服
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