导　　师： 张东平

授予学位： 硕士

作　　者： (）;

机构地区： 深圳大学

摘　　要： 随着经济的快速发展而带来的能源紧缺,人们对楼宇的门窗玻璃要求不再局限于遮风挡雨的基本功能,人们希望建筑玻璃窗口能够更加节能环保。在建筑能源损耗中,由玻璃门窗引起的损耗约占总量的一半,现代建筑中玻璃的使用面积有不断增大的趋势,采用节能玻璃制成“智能窗”可以有效地达到节能效果。VO是制备智能窗的理想材料,它在68℃左右时会发生相变,低于相变温度为半导体态,具有较高的红外光透过率,电阻阻值大;而高于相变温度时相变为金属态,红外透过率和电阻骤减。利用这一特性,将其制成智能窗,可以实现对红外光透过率的智能调控,进而调节室内温度。本文围绕降低衬底温度、提升太阳光调制率等问题,围绕着氧化锌缓冲层以及氧流量、缓冲层厚度、衬底温度和负偏压对VO薄膜光电特性的影响进行了系统的研究。采用直流反应磁控溅射法,在不同厚度的ZnO缓冲层上制备VO薄膜,以研究缓冲层厚度对VO薄膜的影响。结果表明,厚度较合适的缓冲层,其沉积时间在30-50min之间(厚度为158.7-278.9nm),太薄的缓冲层不利于VO薄膜生长,而太厚的缓冲层会影响样品的可见光透过率。采用直流反应磁控溅射法,首先在钠钙玻璃上沉积制备了结晶性良好的ZnO薄膜作为VO薄膜生长缓冲层,在此基础上,采用不同的氧流量制备VO薄膜,以此研究缓冲层和氧流量对VO薄膜性能的影响。实验结果表明,过高或过低的氧流量下制备的VO薄膜相变特性较差,而氧流量为2.1sccm时,制得的样品性能最佳。同时,添加了ZnO缓冲层的样品有更好的可见光透过率和更优异的相变特性。随后,在不同的衬底温度下生长VO薄膜。研究发现,以缓冲层为衬底时,由于晶格匹配更好,VO的结晶温度稍有下降,沉积温度为340℃时,样品便具有相变特性。当沉积温度为380℃时,样品的光学特性最佳,其可见光透�

关 键 词： 磁控溅射 薄膜 缓冲层 衬底温度

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