中文会议： 粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集

会议日期： 2017-12-28

会议地点： 中国广东惠州

主办单位： 广东省科学技术协会

出版日期： 2017-12-28

作　　者： (）;

机构地区： 广东工业大学材料与能源学院

出　　处： 《粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会》

摘　　要： 四面体非晶碳(ta-C)薄膜具有高硬度和弹性模量、优异的耐磨性和抗蚀性、高热导率和电阻率以及良好的化学惰性等优异性质,己成为刀具用硬质合金表面的理想涂层材料。本文采用多弧离子镀技术在P(100)单晶抛光硅衬底和YG6硬质合金上制备ta-C薄膜,研究沉积时间(19、27、35、47min)对ta-C薄膜结构和性能的影响。利用表面轮廓仪对薄膜粗糙度进行测量,利用扫描电镜对薄膜表面、截面形貌进行表征及对

关 键 词： 四面体非晶碳 多弧离子镀 硬质合金

领　　域： []