中文会议： 粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集

会议日期： 2017-12-28

会议地点： 中国广东惠州

主办单位： 广东省科学技术协会

出版日期： 2017-12-28

作　　者： (）;

机构地区： 北京大学深圳研究生院

出　　处： 《粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会》

摘　　要： 由于高的溅射材料离化率,HiPIMS已经成为PVD镀膜研究领域炙手可热的技术,自从CemenCon推出第一代基于HiPIMS技术的镀膜设备后,其名声也开始大噪工业界。但是其本身放电特性所决定的缺陷:比如放电不稳定、沉积速率低、溅射材料离化率差异大等并未得到实质性解决。本文聚焦与HiPIMS技术的改进工作,从报道的电源、放电等方面对其进行深入探讨,提出从阴极的角度可彻底解决HiPIMS问题,并能将其

关 键 词： 高离化率 磁控溅射 电源 放电 阴极

领　　域： []