中文会议： 粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会论文集

会议日期： 2017-12-28

会议地点： 中国广东惠州

主办单位： 广东省科学技术协会

出版日期： 2017-12-28

作　　者： (）;

机构地区： 汕头大学理学院物理系

出　　处： 《粤港澳大湾区真空科技与宽禁带半导体应用高峰论坛暨2017年广东省真空学会学术年会》

摘　　要： 溅射深度剖析现已成为测量材料表层及薄膜中元素成分分布的一种常规技术,对其工作参数的研究是其发展迅速的重要原因。本文在介绍射频辉光放电光谱仪的溅射和自偏压产生原理的基础上,通过在不同气体工作压强和溅射功率下,对镍/银双层膜样品进行了辉光放电深度剖析的实验,探讨了自偏压与工作压强和溅射功率的关系。实验结果表明,自偏压随工作压强的增加而减小;随着溅射功率的增加,溅射速率增加,在特定的工作压强下会出现一个

关 键 词： 辉光放电发射光谱 深度剖析 薄膜 自偏压 溅射速率

领　　域： []