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聚合物表面纳米蛾眼结构的紫外压印制备工艺及抗反射性能
Preparation Technology and Anti-Reflective Properties of Moth-Eye Nanostructure on the Surface of Polymer

作  者: (武敬华); (吴大鸣); (刘颖); (许红); (王琦); (江冲);

机构地区: 北京化工大学机电工程学院高分子材料加工装备教育部工程研究中心,北京100029

出  处: 《高分子材料科学与工程》 2017年第8期90-95,共6页

摘  要: 利用滚对平板(RTP)紫外纳米压印工艺在聚合物薄膜表面成功制备出大面积蛾眼纳米结构。通过原子力显微镜观测,可以看出蛾眼纳米结构在聚合物表面排布比较规整,呈乳状凸起阵列排布。蛾眼结构波峰高度复制率可以达到95.2%,表面微结构填充完整,复制效果良好。与单层镀膜(AR-coating)抗反射材料相比,抗反射蛾眼结构反射率测试结果在可见光波段(380~760nm)反射率平均降到3%。视角在110°左右可见光平均反射率为7%。 Large size moth-eye nanostructures were successfully prepared on the surface of the polymer films by roll-to-plate (RTP) UV nano-imprint lithography. By atomic force microscopy (AFM), it is shown that the moth- eye nanostructure on the surface of polymer is more regular, with milky bulges arranged in arrays. The replication rate of the wave height to the moth-eye nanostructure could reach 95.2 %. The microstructure from the surface is filled completely and effectively. Compared with the single coating (AR-coating), the reflectance test results of the moth-eye nanostructure are reduced to 3% in the visible light range (380-760 nm). The average reflectance of visible light at 110° is 7%.

关 键 词: 紫外压印 蛾眼结构 抗反射 聚合物 视角

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