作　　者： (刘月豹）; (关仁鹤）; (任丹）;

机构地区： 安徽方兴光电新材料科技有限公司,蚌埠市233010

出　　处： 《玻璃》 2017年第8期19-22,共4页

摘　　要： 主要介绍柔性ITO导电薄膜蚀刻痕消除工艺,分析薄膜膜系结构设计和主要影响其蚀刻痕的因素。 This paper mainly introduces the elimination process for the marks of flexible ITO conductive film, analyzes the structure design of the film system and the main factors affecting its corrosion marks.

关 键 词： 柔性 薄膜 激光蚀刻 蚀刻痕