中文会议： 2015年全国高分子学术论文报告会论文摘要集——主题G 光电功能高分子

会议日期： 2015-10-17

会议地点： 中国江苏苏州

出版方 ： 中国化学会高分子学科委员会

作　　者： ; ; ;

机构地区： 吉林大学

出　　处： 《2015年全国高分子学术论文报告会》

摘　　要： 我们利用改性的胶体刻蚀技术制备了银的中空纳米锥台阵列膜。利用旋涂在玻璃上的光刻胶作为基底,在上面排布单层聚苯乙烯微球做掩板,经过反应性离子刻蚀后,除去上面仍残留的聚苯乙烯微球,我们得到了光刻胶的纳米锥台阵列,最后通过垂直气相沉积银及除去内部的光刻胶,我们成功的制备了具有优良等离子体共振性质的银的中空纳米锥台阵列膜。通过调节光刻胶膜的厚度、刻蚀时间及沉积银的厚度,可以精确的控制锥台阵列的结构参数。我

关 键 词： 胶体刻蚀技术 表面等离子体共振 中空纳米锥台阵列 表面增强拉曼

分 类 号： [O657.37 TQ342.8]

领　　域： [理学] [理学] [化学工程]