中文会议： 2015年全国高分子学术论文报告会论文摘要集——主题G 光电功能高分子

会议日期： 2015-10-17

会议地点： 中国江苏苏州

出版方 ： 中国化学会高分子学科委员会

作　　者： ; ; ; (谷盼盼）;

机构地区： 吉林大学

出　　处： 《2015年全国高分子学术论文报告会》

摘　　要： 胶体刻蚀作为一个新兴的通用构造技术,拥有低成本和大面积的特点。我们利用改进的胶体刻蚀技术,制备了具有优良等离子体共振性质的薄膜,包括纳米火山型阵列,中空锥阵列,半锥纳米壳阵列及其复合阵列等结构。它们可以使孔上下表面的等离子体共振能量得到匹配,使透射效率和对周围介质折射率响应的灵敏度得到大幅度提升。进一步制备了纳米火山型阵列,通过它们产生表面等离子体共振的相互作用,可以将入射光过滤成单色光。中空锥阵

关 键 词： 胶体刻蚀 表面等离子体共振 三维纳米孔阵列 纳米火山阵列 中空锥阵列

分 类 号： [TB383.2]

领　　域： [一般工业技术]