中文会议： 2013年全国高分子学术论文报告会论文摘要集——主题F：功能高分子

会议日期： 2013-10-12

会议地点： 中国上海

出版方 ： 中国化学会高分子学科委员会

作　　者： ; ; ;

机构地区： 吉林大学

出　　处： 《2013年全国高分子学术论文报告会》

摘　　要： <正>胶体刻蚀作为一个新兴的通用构造技术,拥有低成本和大面积的特点。我们利用改进的胶体刻蚀技术,制备了具有优良等离子体共振性质的金属膜,包括三维纳米孔阵列,纳米火山型阵列和中空锥阵列。前者可以使孔上下表面的等离子体共振能量得到匹配,使透射效率和对周围介质折射率响应的灵敏度得到大幅度提升。而且,此种材料具有优良的转移性,可

关 键 词： 胶体刻蚀 等离子体共振 三维纳米孔薄膜 纳米火山阵列 中空锥阵列

分 类 号： [TB383.2]

领　　域： [一般工业技术]