中文会议： 2011年全国高分子学术论文报告会论文摘要集

会议日期： 2011-09-24

会议地点： 中国辽宁大连

出版方 ： 中国化学会高分子学科委员会

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 吉林大学

出　　处： 《2011年全国高分子学术论文报告会》

摘　　要： <正>在本文中,我们结合胶体微球刻蚀技术与两步去润湿方法构筑了有序异质双环结构阵列。首先,利用基二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体的可溶胀性质,将紧密堆积的二氧化硅胶体微球转变为非紧密堆积阵列。然后,通过热压的方法将其压入罗丹明@PVA膜

关 键 词： 有序阵列 去润湿 胶体刻蚀 异质

分 类 号： [O648.1]

领　　域： [理学] [理学]