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硅酸盐溶液中不同电流密度下形成微弧氧化膜的性能研究

中文会议: 2004年腐蚀电化学及测试方法学术交流会论文集

会议地点: 中国武汉

出版方 : 中国腐蚀与防护学会腐蚀电化学及测试方法专业委员会

作  者: ; ; ;

机构地区: 中国科学院海洋研究所

出  处: 《2004年腐蚀电化学及测试方法学术交流会》

摘  要: 本文采用不同的氧化电流密度,在碱性硅酸盐溶液中镁合金AZ91D表面制得了一系列的微弧氧化膜,并且利用显微镜方法、X射线衍射方法和电化学阻抗方法对膜层的生长曲线、表面形貌、结构组成以及电化学阻抗等性能进行了比较研究。结果表明,氧化电流密度越高,膜层的生长速度越快,膜层的晶化程度越高,但是膜层也越粗糙、孔隙率升高,阻抗反而降低。膜层的阻抗性能主要取决于氧化膜的致密程度而与膜层的总厚度关系不大。

关 键 词: 微弧氧化 镁合金 电流密度 性能

领  域: [金属学及工艺] [金属学及工艺]

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