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保持光子禁带不分裂的膜层允许缺陷

中文会议: 2007年中国青年光学学术研讨会论文摘要集

会议地点: 中国广东深圳

出版方 : 中国光学学会青年工作委员会

作  者: ; ;

机构地区: 深圳大学光电工程学院

出  处: 《2007年中国青年光学学术研讨会》

摘  要: 利用光学传输矩阵法研究了10种一维缺陷态光子晶体。研究发现,介质层的光学厚度离理论值的偏移量小于3%时,光子禁带不会发生分裂。缺陷层的位置越靠近光子晶体中央,光子禁带越容易分裂;衬底的引入、机械摩擦导致的外层介质的磨损等都不会导致光子禁带分裂。基本上来说, 当高低折射率介质光学厚度比(R)小于0.66时,高折射率介质层厚度的允许偏移量(允许 d)比较大, 而低折射率介质层厚度的允许 d 值比较小;

关 键 词: 光子晶体 光子禁带 缺陷 禁带分裂 光学厚度允许偏离值

分 类 号: [P436]

领  域: [天文地球]

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