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脉冲激光沉积环境对MgZnO成膜特性影响

中文会议: 第十四届全国光学测试学术讨论会论文(摘要集)

会议日期: 2012-09-21

会议地点: 中国四川绵阳

出版方 : 中国光学学会光学测试专业委员会

作  者: ; ; ; ;

机构地区: 深圳大学物理科学与技术学院

出  处: 《第十四届全国光学测试学术讨论会》

摘  要: <正>利用KrF准分子激光器,采用MgZnO陶瓷靶(纯度99.99%,ZnO和MgO按原子百分比80:20混合),以Si(111)或石英为基底,通过脉冲激光沉积法制备MgZnO薄膜。利用分光光度计和光学多道光谱仪研究沉积过程中氧压和衬底温度对MgZnO薄膜光学性能的影响。研究结果表明:1.在不加氧环境下,衬底温度对MgZnO薄膜的透过率的影响不是很大;2.在不加氧条件下,分别在温度为300℃和60

分 类 号: [O484.1 TN24]

领  域: [理学] [理学] [电子电信]

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