中文会议： 2013春季国际PCB技术/信息论坛论文集

会议日期： 2013-03-19

会议地点： 上海

主办单位： 中国印制电路行业协会

作　　者： ; ; ; (谢金平）; (吴耀程）; (梁韵锐）;

机构地区： 广东工业大学

出　　处： 《2013春季国际PCB技术/信息论坛》

摘　　要： 利用碱性蚀刻废液通过化学还原的方法制备纳米铜粉。在碱性条件下用NABH4作还原剂；表面分散剂和保护剂用聚乙烯比咯烷酮(PVP)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)；研究结果表明,用碱性蚀刻废液制备纳米铜最佳的条件为：反应温度60℃,反应时间60 MIN,PVP 与CTAB的用量为1∶5,制备出来的纳米铜粉为单质铜,颗粒粒径在100NM以内。

关 键 词： 印制电路板 碱性蚀刻液 纳米铜粉

分 类 号： [ZZ]

领　　域： [文化科学]