中文会议: 2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会论文集
会议日期: 2011-08-08
会议地点: 昆明
主办单位: 中国半导体行业协会
作 者: ; ; ; ; ; ; ; ; ; (钱文生); (周天舒); (季伟); (李昊); (刘鹏); (黄景丰); (顾学强); (周正良);
机构地区: 清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
出 处: 《2011’全国半导体器件产业发展、创新产品和新技术研讨会》
摘 要: 作为将能带工程引入硅器件的最成功范例, SIGE HBT出色的高频功率和噪声性能,加之与硅集成电路工艺的良好兼容性,使其器件及其集成电路产品具有优异的性价比,因而已经广泛应用于无线通信、全球定位系统、无线局域网等领域。与SI BJT相比,SIGE HBT的优势来自于基区和发射区之间的能带差。由于SIGE基区与SI发射区相比禁带宽带较窄,从而有效降低了少数载流子(对于NPN器件而言就是电子)从发射区向基区注入所需克服的势垒高度,从而大大提高了发射极的注入效率。因此,即使在基区的掺杂浓度大大提高的前提下,器件仍能获得足够高的电流放大倍数。而基区掺杂浓度的提高,可以保证基区很薄时器件依然具有很小的基区电阻,即可同时有效减小基区渡越时间τB和基区电阻RB,十分有益于提高器件的频率响应、微波功率和高频噪声性能。