中文会议： 第九届全国光电技术学术交流会论文集

会议日期： 2010-05-01

会议地点： 北京

主办单位： 中国宇航学会,中国航空学会,中国兵工学会,中国光学学会,中国电子学会

作　　者： ; ; ; ;

机构地区： 沈阳建筑大学交通与机械工程学院

出　　处： 《第九届全国光电技术学术交流会》

摘　　要： 采用直流反应磁控溅射技术，制备获得ZAO薄膜，研究氧分压、氩分压关键制备工艺参数对ZAO薄膜的组织结构、光、电性能的影响，并获得了最佳的氧、氩分压制备参数，利用该参数制备ZAO薄膜，能够获得在可见光范围内的平均透射率>85％，最低电阻率为4．5×10-4ΩCM的ZAO薄膜，其光电性能均满足应用需求．

分 类 号： [O48 TB3]

领　　域： [理学] [理学] [一般工业技术]