帮助 本站公告
您现在所在的位置:网站首页 > 知识中心 > 文献详情
文献详细Journal detailed

磁头/磁盘系统气体稀薄效应的影响与数值分析

中文会议: 润滑与密封

会议日期: 2006-07-25

会议地点: 哈尔滨

主办单位: 中国机械工程学会

出版方 : 中国机械工程学会摩擦学分会

作  者: ; ; ; ;

机构地区: 华南理工大学机械与汽车工程学院

出  处: 《2006全国摩擦学学术会议》

摘  要: 结合理论和数值计算分析了稀薄效应对磁头/磁盘系统纳米间隙润滑的影响.从膜厚的角度来看,低于气体分子平均自由程的比例并不大.而从膜厚和压力2方面来看,处于稀薄效应区域的比例将大大增加.实际的磁头/磁盘系统中,磁头的大部分仍工作在稀薄气体的滑流区域,离稀薄气体的过渡区还较远.考虑稀薄效应后,磁头/磁盘系统的重要工作性能参数,都有减小的趋势。

关 键 词: 稀薄效应 有限差分法 气体润滑 纳米间隙润滑 平均自由程

领  域: [一般工业技术]

相关作者

相关机构对象

机构 惠州学院经济管理系

相关领域作者

作者 许治
作者 万良勇
作者 宋舒
作者 黄佑军
作者 王应密