中文会议： 第二届中国可信计算与信息安全学术会议论文集

会议日期： 2006-10-21

会议地点： 河北保定

主办单位： 中国计算机学会,河北大学

作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 武汉大学物理科学与技术学院

出　　处： 《第二届中国可信计算与信息安全学术会议》

摘　　要： 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在SI(100)基片上直接制备了C轴一致取向的LSCO(LA0.5S0.5COO3)电极层和BI3.15ND0.85TI3O12(BNT)铁电薄膜,并利用X-射线衍射、扫描电镜分析测定了薄膜的相结构、取向和形貌特征;利用高频阻抗分析仪和多功能铁电仪研究了其铁电特性.另外,还考察了沉积温度和氧压对BNT薄膜微结构、取向、形貌和铁电特性的影响,优化了BNT薄膜的沉积条件.在优化条件下制备得到的BNT薄膜的C-V曲线具有典型的蝴蝶形特征.由其P-E电滞回线测试得其剩余极化强度为2PR=32.6μC/CM2,矫顽电场为2EC=69KV/CM,表明该薄膜具有较好的电极化反转存储特性.

关 键 词： 铁电性 无缓冲层 基 脉冲激光沉积技术

分 类 号： [T]

领　　域： [一般工业技术]