中文会议： 第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议论文集

会议日期： 2008-11-30

会议地点： 广州

主办单位： 中国电子学会,广州市科协

作　　者： ; ; ; ; ; ;

机构地区： 深圳大学材料学院深圳市特种功能材料重点实验室

出　　处： 《第十五届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》

摘　　要： 使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SIO2)和单晶硅(111)基底上制备了具有C轴择优取向的ZNO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、表面轮廓仪(SURFACE PROFILER)、扫描电了显微镜(SEM)、荧光光谱(PL)、紫外可见分光光度计对合成样品进行了结构、成份以及光学性能进行分析。结果显示：在1～10 PA的氧气压力条件下制各的所有ZNO薄膜均有着较高的光学透过率(>75％)；氧气压力临界值为2 PA；氧气压力2 PA时合成的ZNO薄膜有着较平整的表面,较高沉积速率～250 NM/H,(002)峰的半高宽为0.20°,此时薄膜中氧空位含量较少,薄膜显示出良好的PL特性。

关 键 词： 氧气压力 脉冲激光沉积 光学性质 氧化锌薄膜 光学透过率

领　　域： [一般工业技术]